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武汉敏声新取得一种释放监控结构及其制备方法专利，保证释放监控结构的监测效果

admin 2024-08-22 17:15:03 财经已有人查阅

导读2024 年 8 月 21 日消息，天眼查知识产权信息显示，武汉敏声新技术有限公司取得一项名为“一种释放监控结构及其制备方法“，授权公告号 CN118100854B，申请日期为 2024 年 3 月......

2024 年 8 月 21 日消息，天眼查知识产权信息显示，武汉敏声新技术有限公司取得一项名为“一种释放监控结构及其制备方法“，授权公告号 CN118100854B，申请日期为 2024 年 3 月。

专利摘要显示，本发明公开了一种释放监控结构及其制备方法，释放监控结构的衬底包括衬底层、氧化层和功能层，氧化层位于衬底层与功能层之间，功能层位于氧化层远离述衬底层的一侧；功能层包括空腔以为围绕空腔的功能层本体；挡墙结构位于氧化层远离衬底层的一侧，并且位于功能层本体靠近空腔的一侧；谐振堆叠结构包括电极层和压电层；通道包括至少两个牺牲通道和观测通道；沿释放监控结构的厚度方向，通道与空腔存在交叠，牺牲通道贯穿谐振堆叠结构，观测通道贯穿部分电极层。通过在释放监控结构中增加电极层，并且增添观测通道，保证释放监控结构制备空腔的进程与一般谐振器的空腔制备进程相近，保证释放监控结构的监测效果。

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